產品簡介:本產品廣泛用于各種溫涂膜研究,例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、殊納米薄膜;能夠適應未來溫條件下成膜的科學術的發展
*涂膜速度在0~100mm/秒范圍內可調;
*真空鋁盤,可快速放置或取下基片;
*在10~250mm之間可通過行程開關調整行程;
*帶調整涂膜厚度(精度0.01mm)的刮刀;
*涂膜速度:0~100mm/秒;
*大行程:250mm;
*真空板:帶真空鋁平板 ;
*真空板尺寸:L365mm×W200mm×H30mm;
*刮刀可調范圍:0.01~3.5mm;
*加熱烘干系統:室溫~200℃,數顯溫度控制器,精度±1℃
*電源:220V/50Hz;
(1).將片放在真空板上,啟動電源,開啟真空,片吸附在真空板上;