微波消解/萃取/合成系統(tǒng),微波消解儀 型號(hào):HMD6C-4H
1、45L業(yè)的業(yè)均勻爐腔（微波諧振腔）。 2、 雙緩沖防爐門(mén)結(jié)構(gòu)，當(dāng)反應(yīng)異常時(shí)，雙緩沖結(jié)構(gòu)確保操作人員人身安和爐門(mén)結(jié)構(gòu)整無(wú)損。
※3、多通量樣品處理，本機(jī)配4套樣品罐，為方便以后更大處理量需要，本次配10通量轉(zhuǎn)盤(pán)，*多可10個(gè)樣品同時(shí)處理，也可1-10個(gè)樣品分別處理。 4、壓反應(yīng)罐雙層單體結(jié)構(gòu)組成，并配轉(zhuǎn)盤(pán)支架、防膜片、力矩扳手確保每個(gè)罐承受的壓力致，安可靠，操作輕松簡(jiǎn)便。內(nèi)罐選配口TFM材料，外罐選配口PEEK+GF材料。 5、微波輸出率：1200w, 微波頻率： 2450±13（MHz）。 ※6、多能爐體，微波萃取合成體機(jī)。 ※7、具有雙重控制系統(tǒng)，計(jì)算機(jī)控制A型和單片機(jī)控制C型兩種可選。A型控制通過(guò)數(shù)據(jù)線(xiàn)外接計(jì)算機(jī)USB接口，實(shí)時(shí)監(jiān)控和顯示溫度壓力作曲線(xiàn)，可無(wú)限量存儲(chǔ)應(yīng)用方法和消解溫度（壓力）——時(shí)間曲線(xiàn)，同時(shí)可對(duì)儲(chǔ)存的應(yīng)用方法行修改等操作。C型為單片機(jī)控制 8、接觸式壓力傳感器，實(shí)時(shí)控制并顯示消解罐內(nèi)的壓力和升壓曲線(xiàn)，范圍：0-10 MPa（1500 psi），控制精度0.01 MPa。 9、精度鉑電阻傳感器，實(shí)時(shí)控制并顯示消解罐內(nèi)的溫度和升溫曲線(xiàn)，范圍：0-300℃，精度：± 0.5℃； 10、所有反應(yīng)罐都可在爐腔外冷卻，冷卻速度快，適用于風(fēng)冷和水冷兩種方式。 11、多重防腐涂層，確保爐腔長(zhǎng)期抵御各種酸氣和溶劑腐蝕。 12、過(guò)壓保護(hù)，主動(dòng)保護(hù)：斜率控制，防止升壓或者升溫過(guò)沖。罐內(nèi)壓力過(guò)設(shè)定保護(hù)值會(huì)自動(dòng)停止微波加熱。被動(dòng)保護(hù)：采用安防膜，過(guò)壓時(shí)行破裂，卸壓防，并可以防止樣品罐受損。 13、主要配置：主機(jī)系統(tǒng)套、數(shù)顯式單片機(jī)控制器個(gè)、雙層壓密閉罐4套、10通道轉(zhuǎn)盤(pán)支架。用具：力矩扳手、擴(kuò)口器、安膜片300片、注射器、扳手支架等。
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